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產(chǎn)品展示

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定向CVD生長爐

產(chǎn)品詳情

型號:OTF-1200X-50-DSL

產(chǎn)品概述:OTF-1200X-50-DSL是一款水平滑軌爐,其爐管直徑為Φ50mm,爐體滑動速度可以根據(jù)實驗需要而設(shè)置(1mm/sec-100mm/s),并可以設(shè)置左右反復(fù)滑動,同時還可以設(shè)置爐體的滑動距離。此款管式爐專門設(shè)計用CVD方法定向生長單壁碳納米管(SWCNTs)。通時此款滑軌爐也可用來在硅片上生長熔點較低的金屬單晶。此系統(tǒng)包含了可設(shè)30段程序的高溫爐、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭

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技術(shù)參數(shù)實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
爐體結(jié)構(gòu)

· 采用雙層殼體結(jié)構(gòu),并帶有風冷系統(tǒng)

· 一個滑軌安裝在爐體下端,可通過一6“的觸摸屏來控制爐體移動方向、滑動速度和往返次數(shù)

· 采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料,并且表面涂有美國進口高溫氧化鋁涂層,可提高加熱效率和延長使用壽命。


功率

1.5KW

電壓

AC220V,單相

最高共工作溫度

1200℃(≤1小時)

連續(xù)工作溫度

1100℃

加熱區(qū)域

· 加熱區(qū):200mm(單溫區(qū))

· 通過管堵位置和爐體移動可形成想得到的溫度梯度

圖片1.png        

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加熱元件

摻鉬鐵鉻鋁(表面涂有高溫氧化鋯涂層,可延長其使用壽命)

爐管

· 高純石英管

· 尺寸:50 mm OD x 46mm ID x 1000 mm L

· 儀器加熱前,必須放入管堵,以防止熱量輻射影響法蘭的密封性


溫控系統(tǒng)

· 采用PID方式調(diào)節(jié)溫度,可設(shè)置30段升溫、降溫和保溫程序

· 設(shè)置有溫度過高和斷偶保護系統(tǒng)

· 控溫精度:±1℃

· 可選測PC控制軟件,將升溫程序和溫度曲線導(dǎo)入到電腦中

· 控溫儀表操作視頻

圖片3.png   圖片4.png


爐體滑動控制系統(tǒng)

· 觸摸屏控制

· 爐體移動有手動和自動控制兩種控制狀態(tài),在手動狀態(tài)和自動狀態(tài)下均可設(shè)定左右移動的速度,但只有在自動狀態(tài)下才能設(shè)定左右移動的次數(shù)。

· 含蜂鳴報警器,當爐體觸碰到限位開關(guān)就會產(chǎn)生報警,并切斷控制電路,使爐體停止移動。

· 可顯示高溫爐內(nèi)的爐溫,與之通訊


密封法蘭

· 儀器中配有一套不銹鋼密封法蘭(上面已安裝不銹鋼針閥和機械壓力表)

· 法蘭上有一Φ6.35的鎧裝孔,可將熱電偶插入到爐管中,更準確地測量樣品的實際溫度
圖片5.png


石英氣體噴嘴

可選配石英氣體噴嘴,將反應(yīng)氣體與緩沖清洗氣體分開通入,可有效減少副反應(yīng)發(fā)生,實現(xiàn)高端CVD工藝,如局部控制前體濃度化學氣相沉積工藝(ALC CVD)或單晶二維材料薄膜的生長工藝等。

 圖片6.png


真空度

· 10E-5 torr (用分子泵)

· 10E-2?torr?(用直聯(lián)式機械泵)

圖片7.png  圖片8.png


滑軌長度

1200mm

操作視頻

操作視頻

產(chǎn)品尺寸

· 315 x 300 x 380  mm (爐體

· 1200 x 400 x 530 mm ( 整個外形)

· 360 x 180 x 300 mm(電器控制柜)


重量

100KG

質(zhì)保期

一年質(zhì)保期,終生維護(不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件損耗件)

質(zhì)量認證

圖片9.png  CE certified

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